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 Passivation of Boron-Doped Industrial Silicon Emitters by Thermal Atomic Layer Deposited Titanium Oxide 热原子层沉积氧化钛钝化掺硼工业硅发射极
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硅
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期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Baochen Liao; Bram Hoex; Kishan Devappa Shetty; Prabir K. Basu; Charanjit S. Bhatia 出版日期：2015-06-03 |
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