标题 |
[高分] Investigating SEM-contour to CD-SEM matching
扫描电镜轮廓与CD-SEM匹配的研究
相关领域
薄脆饼
匹配(统计)
扫描电子显微镜
公制(单位)
计算机科学
人工智能
模式识别(心理学)
校准
维数(图论)
模式匹配
计算机视觉
材料科学
数学
纳米技术
工程类
统计
复合材料
运营管理
纯数学
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DOI | |
其它 |
期刊:Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV 作者:François Weisbuch; Jirka Schatz; Sylvio Mattick; Nivea G. Schuch; Thiago Figueiro; et al 出版日期:2021-02-19 |
求助人 | |
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