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 Quasi‐atomic layer etching of silicon with surface chlorination and removal using Ar or He plasmas 硅的准原子层蚀刻，表面氯化并使用氦气或氦气等离子体去除
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期刊：Plasma Processes and Polymers 作者：Namgun Kim; Whan Kyun Kim; Dongjun Shin; Jong Kyu Kim; Chan Min Lee; et al 出版日期：2024-03-22 |
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