标题 |
Stack system of PECVD amorphous silicon and PECVD silicon oxide for silicon solar cell rear side passivation
用于硅太阳电池背面钝化的PECVD非晶硅和PECVD氧化硅叠层系统
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钝化
等离子体增强化学气相沉积
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期刊:Progress in Photovoltaics Research and Applications 作者:Marc Hofmann; Christian Schmidt; N. Kohn; J. Rentsch; Stefan W. Glunz; et al 出版日期:2008-06-17 |
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