标题 |
Effects of shear and bending strains on domain structures in freestanding ferroelectric thin films from phase-field simulations
剪切和弯曲应变对独立铁电薄膜畴结构的影响
相关领域
材料科学
铁电性
极化(电化学)
薄膜
电场
应变工程
磁滞
凝聚态物理
复合材料
光电子学
纳米技术
物理
电介质
化学
硅
量子力学
物理化学
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|