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 Line width roughness (LWR) performance of novel surface conditioner solutions for immersion lithography 用于浸没光刻的新型表面调节剂溶液的线宽粗糙度（LWR）性能
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Bo Lü; E. T. Liu; Anson Zeng; Aroma Tseng; Steven Wu; et al 出版日期：2008-03-14 |
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