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标题
Effect of the RF bias on the plasma density in an argon inductively coupled plasma
射频偏压对氩电感耦合等离子体密度的影响
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网址
DOI
10.1063/5.0015555 doi
其它 期刊:Physics of Plasmas
作者:Ho-Won Lee; Kyung-Hyun Kim; Jong In Seo; Chin‐Wook Chung
出版日期:2020-09-01
求助人
小白 在 2025-03-19 14:03:26 发布自北京,悬赏 10 积分
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