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标题
EUV and immersion lithography integration in 7nm FPGA production
7nm FPGA生产中的EUV和浸没式光刻集成
相关领域
极紫外光刻 浸没式光刻 多重图案 平版印刷术 进程窗口 薄脆饼 沉浸式（数学） 材料科学 下一代光刻 光电子学 抵抗 计算机科学 纳米技术 电子束光刻 图层（电子） 数学 纯数学
网址
https://doi.org/10.1117/12.2614366
DOI
10.1117/12.2614366 doi
其它 期刊：
作者：Lin Qi; N. Chong; Toshiyuki Hisamura; Jonathan Chang
出版日期：2022-05-26
求助人
勤恳的仰 在 2025-04-27 15:38:07 发布自广东，悬赏 20 积分
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