Surface Passivation of Boron-Diffused Junctions by a Borosilicate Glass and In Situ Grown Silicon Dioxide Interface Layer

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标题	Surface Passivation of Boron-Diffused Junctions by a Borosilicate Glass and In Situ Grown Silicon Dioxide Interface Layer 硼硅酸盐玻璃和原位生长二氧化硅界面层对硼扩散结的表面钝化相关领域钝化硼硅酸盐玻璃图层（电子）材料科学分析化学（期刊）纳米技术化学有机化学复合材料
网址	https://doi.org/10.1109/jphotov.2018.2792422
DOI	10.1109/jphotov.2018.2792422 doi
其它	期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Valentin D. Mihailetchi; Haifeng Chu; Jan Lossen; Radovan Kopecek 出版日期：2018-01-23
求助人	小七在 2025-03-07 16:00:10 发布自江苏，悬赏 10 积分
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