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![]() 曝光时间和偏压对甲苯蒸气在Ho3+掺杂NiO化学电阻传感器上响应动力学的影响:黄色发射纳米荧光粉
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期刊:Inorganic Chemistry Communications 作者:Teboho P. Mokoena; H.C. Swart; T.A. Nhlapo; S.J. Mofokeng; Thembinkosi D. Malevu; et al 出版日期:2023-09-09 |
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