Initial growth analysis of ALD Al2O3 film on hydrogen-terminated Si substrate via in situ XPS

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标题	Initial growth analysis of ALD Al2O3 film on hydrogen-terminated Si substrate via in situ XPS
网址	https://doi.org/10.7567/1347-4065/ab6273
DOI	10.7567/1347-4065/ab6273 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hiroyuki Fukumizu; Makoto Sekine; Masaru Hori; Paul C. McIntyre 出版日期：2020-01-01
求助人	初见在 2024-03-09 16:11:13 发布自中国，悬赏 10 积分
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