| 标题 |
 Demonstration of Excellent Crystalline Silicon Surface Passivation (S < 1.27 cm/s) by High‐Rate DC‐Sputtered Hydrogenated Amorphous Silicon 高速直流溅射氢化非晶硅对晶体硅表面钝化（S<1.27 cm/S）的研究
相关领域
钝化
非晶硅
硅
材料科学
无定形固体
纳米晶硅
晶体硅
工程物理
光电子学
纳米技术
结晶学
化学
工程类
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Solar RRL 作者：Shasha Li; Shinsuke Miyajima 出版日期：2024-02-20 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
VDC
Ethan
xjcy
精明的迎松
爱静静
杳鸢
Darcy
jyy
tuanheqi
YifanWang
嗯哼
鬼见愁
天公不作美
Dr.Zhang
Singularity
shinysparrow
慕青
竹筏过海
柳叶刀小猪
Phil
皖公网安备34019202002308
