Demonstration of Excellent Crystalline Silicon Surface Passivation (S < 1.27 cm/s) by High‐Rate DC‐Sputtered Hydrogenated Amorphous Silicon

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标题	Demonstration of Excellent Crystalline Silicon Surface Passivation (S < 1.27 cm/s) by High‐Rate DC‐Sputtered Hydrogenated Amorphous Silicon 高速直流溅射氢化非晶硅对晶体硅表面钝化（S<1.27 cm/S）的研究相关领域钝化非晶硅硅材料科学无定形固体纳米晶硅晶体硅工程物理光电子学纳米技术结晶学化学工程类图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1002/solr.202400045
DOI	10.1002/solr.202400045 doi
其它	期刊：Solar RRL 作者：Shasha Li; Shinsuke Miyajima 出版日期：2024-02-20
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