Comparison of H2O2 and H2O oxidations on TDMAT absorbed on silicon(100) surface during reaction step of ALD–TiO2 process: A DFT study

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标题	Comparison of H2O2 and H2O oxidations on TDMAT absorbed on silicon(100) surface during reaction step of ALD–TiO2 process: A DFT study Ald-TiO2反应过程中H2O2和H2O在硅（100）表面吸附的TDMAT上氧化的比较：DFT研究相关领域材料科学硅过程（计算）物理化学化学工程冶金计算机科学操作系统工程类化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mtcomm.2024.108125
DOI	10.1016/j.mtcomm.2024.108125 doi
其它	期刊：Materials Today Communications 作者：Tanabat Promjun; Montri Phothisonothai; Worasitti Sriboon; Saksit Sukprasong; P. Pungboon Pansila 出版日期：2024-03-01
求助人	艾达乳酪块在 2024-02-02 16:43:30 发布自四川，悬赏 10 积分
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