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 Characterization of Metal/Ferroelectric/Insulator/Semiconductor Structure with CeO2 Buffer Layer 具有CeO2缓冲层的金属/铁电/绝缘体/半导体结构的表征
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Tadahiko Hirai; Kazuhiro Teramoto; Kazuhito Nagashima; Hiroshi Koike; Yasuo Tarui 出版日期：1995-08-01 |
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