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Deposit of AlN thin films by nitrogen reactive pulsed laser ablation using an Al target
氮气反应脉冲激光烧蚀Al靶沉积AlN薄膜
相关领域
X射线光电子能谱
材料科学
氮气
衍射
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分析化学(期刊)
薄膜
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脉冲激光沉积
激光器
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化学
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期刊:Revista mexicana de física/Revista mexicana de física 作者:F. Chalé-Lara; M. Zapata‐Torres; F. Caballero‐Briones; W. de la Cruz; Noe Gonzalez; et al 出版日期:2019-07-01 |
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