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 Novel polymeric platform produced by photodegradation‐induced rearrangement for a multifunctional negative photoresist 用于多功能负性光刻胶的光降解诱导重排制备的新型聚合物平台
相关领域
光刻胶
材料科学
聚合物
光化学
表面改性
聚合
扫描电子显微镜
荧光
光降解
分子
化学工程
纳米技术
有机化学
化学
催化作用
光催化
图层（电子）
工程类
复合材料
物理
量子力学
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| 其它 |
期刊：Polymers for Advanced Technologies 作者：Gang Yu; Qian Xu; Zhiyou Lei; Yanbing Lu; Weijian Xu; et al 出版日期：2022-11-01 |
| 求助人 | |
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