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![]() 利用反应离子束刻蚀制备倾斜光栅:CHF3和O2刻蚀气氛的作用
相关领域
蚀刻(微加工)
材料科学
分析化学(期刊)
纳米技术
化学
有机化学
图层(电子)
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期刊:2022 IEEE 16th International Conference on Solid-State & Integrated Circuit Technology (ICSICT) 作者:Na Liu; Guojian Ding; Guankong Mo; Jia Shi; Qi Feng; et al 出版日期:2022-10-25 |
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