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 Hafnium Chloride Pulse Time Reduction on Atomic Layer Deposited High-K HfO2 Dielectric Films 原子层沉积高K HfO2介质膜上氯化铪脉冲时间的减少
相关领域
铪
材料科学
电介质
原子层沉积
图层（电子）
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高-κ电介质
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光电子学
氯化物
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数学
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探测器
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期刊： 作者：Meena Rajachidambaram; Bridgette Rodman; Alyssa Bennett; Justin Clements; B. M. Korevaar 出版日期：2024-05-13 |
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