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[高分] Development of new Si-contained hardmask for tri-layer process
用于三层工艺的新型含硅硬掩模的研制
相关领域
光刻胶
平版印刷术
材料科学
抵抗
相容性(地球化学)
浸没式光刻
光刻
硅
图层(电子)
光电子学
纳米技术
复合材料
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