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标题
[高分] Development of new Si-contained hardmask for tri-layer process
用于三层工艺的新型含硅硬掩模的研制
相关领域
光刻胶 平版印刷术 材料科学 抵抗 相容性(地球化学) 浸没式光刻 光刻 图层(电子) 光电子学 纳米技术 复合材料
网址
DOI
10.1117/12.879357 doi
求助人
ymj 在 2024-09-04 10:32:22 发布自上海,悬赏 50 积分
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