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![]() HiPIMS氮化铪(HfOxNy)薄膜的电学参数和热稳定性研究
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期刊:Materials 作者:Mirosław Puźniak; Wojciech Gajewski; Aleksandra Seweryn; Marcin T. Klepka; B.S. Witkowski; et al 出版日期:2023-03-22 |
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