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标题
Wet-chemical deposition of metals for advanced semiconductor technology nodes: Rh3+ solution stability and Rh electrodeposition
用于先进半导体技术节点的金属湿化学沉积:Rh3+溶液稳定性和Rh电沉积
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网址
DOI
10.1016/j.electacta.2024.144331 doi
其它 期刊:Electrochimica Acta
作者:Harold Philipsen; Youjung Kim; Bongyoung Yoo
出版日期:2024-05-01
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失眠灭男 在 2024-11-29 17:09:55 发布自湖北,悬赏 10 积分
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