标题 |
Defect and roughness reduction of chemo-epitaxy DSA pattern
化学外延DSA图缺陷与粗糙度的降低
相关领域
德拉姆
外延
光电子学
材料科学
平版印刷术
计算机科学
商标
表面光洁度
纳米技术
冶金
操作系统
图层(电子)
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期刊: 作者:Makoto Muramatsu; Takanori Nishi; Gen You; Yasuyuki Ido; Takahiro Kitano 出版日期:2018-03-19 |
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