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Ab initio prediction and characterization of Hf2CO2 monolayer as a promising adsorbent to capture toxic AsH3 gas
Hf2CO2单层吸附有毒AsH3气体的从头计算预测与表征
相关领域
单层
物理吸附
吸附
砷化氢
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期刊:Applied Surface Science 作者:Shuhong Ma; Yiran Wang; Yaqiang Ma; Yipeng An; Zhaoyong Jiao 出版日期:2020-08-30 |
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