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标题
Effect of Superimposed DC Power on the Properties of Intrinsic Hydrogenated Amorphous Silicon Passivation Layer Deposited by RF Facing Target Sputtering
叠加直流功率对射频面对靶溅射沉积本征氢化非晶硅钝化层性能的影响
相关领域
钝化 材料科学 溅射 硅 光电子学 图层（电子） 非晶硅 沉积（地质） 溅射沉积 基质（水族馆） 射频功率放大器 异质结 太阳能电池 薄膜 晶体硅 纳米技术 放大器 古生物学 地质学 海洋学 生物 CMOS芯片 沉积物
网址
https://doi.org/10.1109/jphotov.2020.2989174
DOI
10.1109/jphotov.2020.2989174 doi
其它 期刊：IEEE Journal of Photovoltaics
作者：Yuta Shiratori; Kazuyoshi Nakada; Shinsuke Miyajima
出版日期：2020-05-08
求助人
于鱼 在 2024-12-25 09:16:59 发布自江苏，悬赏 10 积分
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