Comparison of oxidation in uni-directionally and randomly oriented Cu films for low temperature Cu-to-Cu direct bonding

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标题	Comparison of oxidation in uni-directionally and randomly oriented Cu films for low temperature Cu-to-Cu direct bonding 用于低温Cu-Cu直接键合的单向和随机取向Cu膜氧化的比较相关领域热扩散率氧化物直接结合材料科学透射电子显微镜铜氧化铜化学工程纳米技术冶金硅量子力学物理工程类
网址	https://www.nature.com/articles/s41598-018-28812-0.pdf
DOI	10.1038/s41598-018-28812-0 doi
其它	期刊：Scientific Reports 作者：Chih-Han Tseng; K. N. Tu; Chih Chen 出版日期：2018-07-09
求助人	陈陈在 2024-10-30 16:30:44 发布，悬赏 10 积分
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