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 Plasma characteristics of an Ar/CF4/N2discharge in an asymmetric dual frequency reactor: numerical investigation by a PIC/MC model 不对称双频反应器中Ar/CF4/N2放电的等离子体特性：PIC/MC模型的数值研究
相关领域
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Violeta Georgieva; Annemie Bogaerts 出版日期：2006-04-27 |
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