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标题
Effect of High Energy Implantation on the Photoresist for Smaller Size CMOS Image Sensor
高能注入对小尺寸CMOS图像传感器光刻胶的影响
相关领域
光刻胶 离子注入 材料科学 CMOS芯片 光电子学 临界尺寸 离子 抵抗 高能 低能 纳米技术 光学 化学 原子物理学 物理 图层(电子) 有机化学
网址
DOI
10.1109/cstic55103.2022.9856751 doi
其它 期刊:2022 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC)
作者:Hui Chen; Xiaoyü Li; Zhengying Wei; Chang Sun; Jiong Xu; et al
出版日期:2022-06-20
求助人
研友_Z7QXwL 在 2024-02-21 20:33:49 发布自江苏,悬赏 10 积分
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