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 Dominant factors and their action mechanisms on material removal rate in electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface 4H-SiC（0001）表面电化学机械抛光中材料去除率的主导因素及其作用机理
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期刊：Applied Surface Science 作者：Xiaozhe Yang; Xu Yang; Kentaro Kawai; Kenta Arima; Kazuya Yamamura 出版日期：2021-05-17 |
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