Relation of Dielectric Constants and Chemical Structures of Low Dielectric Constant SiCOH Films Deposited by Using Octamethylcyclotetrasiloxane and Tetraethylorthosilicate Precursors - 科研通

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标题	[高分] Relation of Dielectric Constants and Chemical Structures of Low Dielectric Constant SiCOH Films Deposited by Using Octamethylcyclotetrasiloxane and Tetraethylorthosilicate Precursors 八甲基环四硅氧烷和原硅酸四乙酯前驱体沉积低介电常数SiCOH薄膜的介电常数与化学结构的关系相关领域电介质材料科学化学气相沉积分析化学（期刊）沉积（地质）介电常数化学工程纳米技术有机化学化学光电子学沉积物生物工程类古生物学
网址	https://doi.org/10.1166/jnn.2019.17028 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1166/jnn.2019.17028 doi
其它	期刊：Journal of Nanoscience and Nanotechnology 作者：Yoon‐Soo Park; Sungyool Kwon; Wonjin Ban; Hyuna Lim; Donggeun Jung 出版日期：2019-04-26
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