标题 |
Polarization and Reliability Enhancement for Ferroelectric Capacitors by Interface Engineering Through Crystalline TaN
通过晶体TaN的界面工程提高铁电电容器的极化和可靠性
相关领域
电容器
铁电性
材料科学
极化(电化学)
可靠性(半导体)
接口(物质)
光电子学
铁电电容器
电气工程
电子工程
可靠性工程
复合材料
工程类
电介质
物理
化学
电压
功率(物理)
物理化学
量子力学
毛细管数
毛细管作用
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Yi-Fan Chen; C.W. Wang; Hung-Yuan Shih; Chun-Yi Kuo; Yung‐Hsien Wu 出版日期:2024-03-13 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|