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 First-principles and thermodynamic analysis for gas phase reactions and structures of the SiC(0001) surface under conventional CVD and Halide CVD environments 常规CVD和卤化物CVD环境下SiC（0001）表面气相反应和结构的第一性原理和热力学分析
相关领域
卤化物
化学气相沉积
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气相
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硅
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Kenta Chokawa; Yoshiaki Daigo; Ichiro Mizushima; Takashi Yoda; Kenji Shiraishi 出版日期：2021-07-26 |
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