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Anisotropic etching of graphite and graphene in a remote hydrogen plasma
远程氢等离子体中石墨和石墨烯的各向异性刻蚀
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期刊:npj 2D Materials and Applications 作者:Dorothée Hug; Simon Zihlmann; Mirko K. Rehmann; Y. B. Kalyoncu; Timothy N. Camenzind; et al 出版日期:2017-06-28 |
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