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 Tribochemical mechanisms of abrasives for SiC and sapphire substrates in nanoscale polishing 纳米抛光SiC和蓝宝石基体磨料的摩擦化学机理
相关领域
蓝宝石
抛光
材料科学
纳米尺度
化学机械平面化
纳米技术
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光学
激光器
物理
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期刊：Nanoscale 作者：Qiufa Luo; Jiwen Lu; Feng Jiang; Jiaming Lin; Zige Tian 出版日期：2023-01-01 |
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