| 标题 |
 Enabling non-actinic EUV mask inspection using carbon nanotube pellicle 使用碳纳米管薄膜实现非光化EUV掩模检查
相关领域
极紫外光刻
十字线
光掩模
极端紫外线
平版印刷术
材料科学
光学
薄脆饼
光刻
抵抗
光电子学
碳纳米管
多重图案
吸收（声学）
纳米技术
激光器
物理
复合材料
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII 作者：Mor Keshet; Dor Gershon; Uriel Malul; Yaniv Blinder; Yonatan Orr; et al 出版日期：2021-02-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
薰硝壤
Tonnyjing
坚强的广山
嗯哼
抱住仙人球
明理丹烟
w_
lyl19880908
yufanhui
穆紫
所所
cctv18
英姑
yar
寻道图强
pluto
InfoNinja
敬老院1号
kento
iNk
皖公网安备34019202002308
