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 Revealing Plasmonic TiN Films with Low Power Radio-Frequency Magnetron Sputtering Technique 用低功率射频磁控溅射技术揭示等离子体锡薄膜
相关领域
等离子体子
锡
光电子学
腔磁控管
溅射沉积
材料科学
溅射
无线电频率
高功率脉冲磁控溅射
薄膜
工程物理
纳米技术
电信
计算机科学
冶金
物理
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期刊：Thin Solid Films 作者：Atanu Samanta; Ananya Chattaraj; Sachin Srivastava; Łukasz Walczak; Archna Sagdeo; et al 出版日期：2025-01-01 |
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