Influence of Deposition Parameters for Cu2O and CuO Thin Films by Electrodeposition Technique: A Short Review

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标题	Influence of Deposition Parameters for Cu2O and CuO Thin Films by Electrodeposition Technique: A Short Review 电沉积工艺对Cu2O和CuO薄膜沉积参数的影响相关领域材料科学吸光度三乙醇胺化学浴沉积铜氧化物薄膜带隙无机化学柠檬酸金属纳米材料沉积（地质）水溶液中的金属离子化学工程纳米技术分析化学（期刊）冶金光学光电子学有机化学古生物学化学物理工程类沉积物生物
网址	https://downloads.hindawi.com/journals/jnm/2023/8987633.pdf
DOI	10.1155/2023/8987633 doi
其它	期刊：Journal of Nanomaterials 作者：E. Arulkumar; S. Thanikaikarasan; Nega Tesfie 出版日期：2023-05-15
求助人	开心寻凝在 2024-09-12 11:26:42 发布自美国，悬赏 10 积分
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