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Extending single-exposure patterning towards 38-nm half-pitch using 1.35 NA immersion
使用1.35 NA浸入将单次曝光图案扩展至38纳米半间距
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期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Igor Bouchoms; André Engelen; Jan Mulkens; H.B.K. Boom; R. Moerman; et al 出版日期:2009-03-13 |
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