HCl‐Based Hydrothermal Etching Strategy toward Fluoride‐Free MXenes

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标题	HCl‐Based Hydrothermal Etching Strategy toward Fluoride‐Free MXenes 无氟MXenes的HCl基水热刻蚀研究相关领域 MXenes公司材料科学氟化物超级电容器化学工程电极蚀刻（微加工）电化学纳米技术无机化学图层（电子）化学物理化学工程类
网址	https://doi.org/10.1002/adma.202101015
DOI	10.1002/adma.202101015 doi
其它	期刊：Advanced Materials 作者：Changda Wang; Hongwei Shou; Shuangming Chen; Shiqiang Wei; Yunxiang Lin; et al 出版日期：2021-05-31
求助人	aaaaaa 在 2025-02-25 08:56:49 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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