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 Magnetron sputtering technique for analyzing the influence of RF sputtering power on microstructural surface morphology of aluminum thin films deposited on SiO2/Si substrates 磁控溅射技术分析射频溅射功率对SiO2/Si衬底上沉积铝薄膜微观形貌的影响
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期刊：Applied Physics A 作者：Somayeh Asgary; Elnaz Vaghri; Masoumeh Daemi; Parisa Esmaili; A. H. Ramezani; et al 出版日期：2021-09-10 |
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