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 Low global warming C5F10O isomers for plasma atomic layer etching and reactive ion etching of SiO2 and Si3N4 低全球变暖C5F10O异构体用于SiO2和Si3N4的等离子体原子层蚀刻和反应离子蚀刻
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期刊：Plasma Processes and Polymers 作者：Jihye Kim; Hojin Kang; Yong‐Jae Kim; Minsung Jeon; Heeyeop Chae 出版日期：2024-01-20 |
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