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标题
Control of ion energy during plasma enhanced atomic layer deposition: A new strategy for the modulation of TiN growth delay on SiO2
等离子体增强原子层沉积过程中离子能量的控制：调节SiO2上TiN生长延迟的新策略
相关领域
锡 成核 基质（水族馆） 等离子体 氮化钛 原子层沉积 分析化学（期刊） 感应耦合等离子体 沉积（地质） 偏压 氮化物 硅 氢 材料科学 图层（电子） 化学 纳米技术 光电子学 冶金 电压 古生物学 有机化学 地质学 物理 海洋学 生物 量子力学 色谱法 沉积物
网址
https://doi.org/10.1116/6.0000655
AI链接 univ-grenoble-alpes.frdoi.org
DOI
10.1116/6.0000655 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Samia Belahcen; Christophe Vallée; Ahmad Bsiesy; Ahmad Chaker; Moustapha Jaffal; et al
出版日期：2021-01-01
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乐乐乐乐乐乐 在 2025-02-11 18:53:53 发布自安徽，悬赏 10 积分
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