标题 |
De‐Pinning Fermi Level and Accelerating Surface Kinetics with an ALD Finish Boost the Fill Factor of BiVO4 Photoanodes to 44%
通过ALD表面处理去除费米能级和加速表面动力学将BiVO4光阳极的填充因子提高到44%
相关领域
材料科学
光电流
原子层沉积
光电子学
图层(电子)
费米能级
纳米技术
涂层
工程物理
物理
电子
量子力学
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其它 |
期刊:Small 作者:Renbo Lei; Yupu Tang; Shihan Yan; Weitao Qiu; Zheng Guo; et al 出版日期:2023-10-06 |
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