Mechanisms for enhanced ferroelectric properties in ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 film under low-temperature, long-term annealing

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标题	Mechanisms for enhanced ferroelectric properties in ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 film under low-temperature, long-term annealing 低温长时间退火增强超薄Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜铁电性能的机理
网址	https://doi.org/10.1063/5.0223115
DOI	10.1063/5.0223115 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Lu Tai; Xiaopeng Li; Xiaoyu Dou; Pengpeng Sang; Xuepeng Zhan; et al 出版日期：2024
求助人	落寞晓兰在 2024-08-31 17:59:14 发布自浙江，悬赏 10 积分
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