标题 |
Investigation of Si incorporation in (010) β-Ga2O3 films grown by plasma-assisted MBE using diluted disilane as Si source and suboxide Ga2O precursor
以稀二硅烷为硅源、低氧化Ga2O前驱体等离子体辅助MBE生长(010)β-Ga2O3薄膜中Si掺入的研究
相关领域
二硅烷
亚氧化物
分子束外延
分析化学(期刊)
兴奋剂
杂质
电子迁移率
硅
化学
缪铵
材料科学
外延
纳米技术
氢
光电子学
有机化学
图层(电子)
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Zhuoqun Wen; Xin Zhai; Cindy Lee; Stefan Kosanovic; Yunjo Kim; et al 出版日期:2024-03-18 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|