Deep anisotropic LiNbO3 etching with SF6/Ar inductively coupled plasmas

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标题	Deep anisotropic LiNbO3 etching with SF6/Ar inductively coupled plasmas SF6/Ar电感耦合等离子体深度各向异性LiNbO3刻蚀相关领域蚀刻（微加工）感应耦合等离子体反应离子刻蚀干法蚀刻等离子体材料科学表面粗糙度等离子体刻蚀各向异性表面光洁度分析化学（期刊）体积流量化学纳米技术光学复合材料图层（电子）物理量子力学色谱法
网址	https://doi.org/10.1116/1.3674282
DOI	10.1116/1.3674282 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Jiaojiao Deng; Jia Wei; Ching Eng Png; Guangyuan Si; Jaesung Son; et al 出版日期：2012-01-01
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