Selective Silicon Nitride Etch with Hot Diluted HF– an Alternative to Orthophosphoric Acid

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标题	Selective Silicon Nitride Etch with Hot Diluted HF– an Alternative to Orthophosphoric Acid 用热稀释氢氟酸选择性蚀刻氮化硅——一种替代正磷酸的方法相关领域浅沟隔离薄脆饼氮化硅缓冲氧化物腐蚀材料科学氧化物氮化物蚀刻（微加工）腐蚀坑密度硅 CMOS芯片纳米技术光电子学沟槽冶金图层（电子）反应离子刻蚀
网址	https://doi.org/10.1149/ma2015-02/27/1030
DOI	10.1149/ma2015-02/27/1030 doi
其它	期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：Philippe Garnier; Marc Neyens; Thomas Massin; David Thomassin; C. Maurice 出版日期：2015-07-07
求助人	安之在 2024-08-09 13:08:15 发布自浙江，悬赏 10 积分
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