Influence of external circuitry on CF4 breakdown process in capacitively coupled plasma

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标题	Influence of external circuitry on CF4 breakdown process in capacitively coupled plasma 外部电路对电容耦合等离子体中CF 4击穿过程的影响相关领域容性耦合等离子体电容等离子体电容器光电子学材料科学等离子体刻蚀等离子体处理击穿电压电压蚀刻（微加工）电极化学电气工程感应耦合等离子体纳米技术物理工程类物理化学量子力学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1116/5.0161552
DOI	10.1116/5.0161552 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Zhaoyu Chen; Jingwen Xu; Hongyu Wang; Hao Wu; Wei Jiang; et al 出版日期：2023-09-01
求助人	圆圆在 2024-09-13 23:34:43 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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