High-energy Electron Beam Lithography for Nanoscale Fabrication

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标题	High-energy Electron Beam Lithography for Nanoscale Fabrication 用于纳米级制备的高能电子束光刻技术相关领域极紫外光刻浸没式光刻材料科学平版印刷术电子束光刻下一代光刻小型化光刻 X射线光刻模版印刷光电子学抵抗光学纳米技术物理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.5772/8179
DOI	10.5772/8179 doi
其它	期刊：InTech eBooks 作者：Chao‐Chin Wu; Yoshiyuki Makiuchi; ChiiDong Chen 出版日期：2010-02-01
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