标题 |
[高分] Application of imaging ellipsometry and white light interference microscopy for detection of defects in epitaxially grown 4H–SiC layers
成像椭偏和白光干涉显微镜在外延生长4H-SiC层缺陷检测中的应用
相关领域
材料科学
薄脆饼
椭圆偏振法
光电子学
计量学
外延
显微镜
光学
干扰(通信)
半导体
白光
光学显微镜
薄膜
纳米技术
扫描电子显微镜
计算机科学
复合材料
图层(电子)
计算机网络
频道(广播)
物理
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of the European Optical Society Rapid Publications 作者:Elena Ermilova; Matthias Weise; Andreas Hertwig 出版日期:2023-01-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|