Chemically amplified molecular resists based on noria derivatives containing adamantyl ester groups for electron beam lithography

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标题	Chemically amplified molecular resists based on noria derivatives containing adamantyl ester groups for electron beam lithography 用于电子束光刻的基于含金刚烷基酯基团的noria衍生物的化学放大分子抗蚀剂相关领域抵抗电子束光刻平版印刷术材料科学纳米技术化学化学工程光电子学图层（电子）工程类
网址	https://doi.org/10.1116/1.4953068
DOI	10.1116/1.4953068 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Hiroki Yamamoto; Seiichi Tagawa; Takahiro Kozawa; Hiroto Kudo; Kazumasa Okamoto 出版日期：2016-06-06
求助人	lll6xz 在 2024-11-23 15:35:39 发布自江苏，悬赏 10 积分
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